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?PECVD中RF 和VHF哪個更好

發布時間:2020-12-07 點擊次數:957
氣體分子在外加射頻場下被電離成對應的等離子體,按照射頻施加頻率的不同,可分為 RF-PECVD 和 VHF-PECVD 兩種,其中 RF-PECVD 的頻率一般為 13.56MHz,VHF-PECVD 的頻率一般在 30-300MHz 之間。由于射頻頻率與電 子和氣體分子的碰撞幾率成正相關關系,一定范圍內升高射頻頻率,反應氣體的分解速率將加快,短時間內產生大 量反應活性基團,可提升薄膜的沉積速率;另一方面,高頻場下腔室內的電子濃度增加、反應溫度和直流自偏壓降 低,能夠減小等離子體的離化程度以及轟擊效應,且有利于生成更多的反應前驅物,保證了薄膜優質生長,薄膜缺更少、致密性更佳、電導率更高。


但是高頻場極易導致更多非均勻源的出現,從而引發駐波、奇點等效應,膜面容易脫落或出現條紋,使得薄膜的均 勻性變差;此外,由于甚高頻下薄膜的沉積速率會大大增加,不利于沉積過程中對薄膜厚度的精準控制,同時薄膜 厚度的增加也會導致透光率的降低。

PECVD用石墨舟

RF 鍍膜均勻性好,VHF 高沉積速率提升產能


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